后续不断对DUV光刻机的光源、光学系统、套刻精度、温控等方面，进行全方位升级。
这才逐渐实现了32-28纳米工艺，以及后续的20-16纳米工艺，再到10纳米节点、7纳米节点，以及十年后的5纳米节点。
前世DUV国产光刻机之所以迟迟不量产，主要原因就是要求高，起步高。
若是只能量产45纳米，那意义不大，推出了也没多少企业用。
十年后，缺的是高端光刻机，不是45纳米的光刻机。
但要想量产7纳米，甚至5纳米，那难度就大了，国产DUV都得不断升级。
因此，国产DUV迟迟不推出，就是在憋大招。
不过这一次就无所谓了。
起步早，能量产28纳米，就算是非常成功。
甚至量产45纳米，王逸都会疯狂买买买。
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